株式会社ニューフレアテクノロジー (6256)

東京
11,780.0
0.0(0.00%)
  • 出来高:
    0
  • 売値/買値:
    11,780.0/11,810.0
  • 日中安値/高値:
    11,690.0 - 11,800.0
  • タイプ:株式
  • 市場:日本
  • ISIN:JP3756350009

6256 概要

前日終値
11,680
日中安値/高値
11,690-11,800
売上
24.53B
始値
11,700
52週高値/安値
-
1株当たり利益
473.04
出来高
0
時価総額
134.89B
配当
150.00
(1.55%)
平均出来高 (3か月)
27,931
PER (株価収益率)
24.90
ベータ
0.8
1年の変動
0%
発行済株式
11,450,650
次の決算日
-
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株式会社ニューフレアテクノロジー ニュース

テクニカルサマリー

タイプ
5 分
15 分
1時間足
日足
月単位
移動平均
テクニカル指標
サマリー

株式会社ニューフレアテクノロジー 企業情報

株式会社ニューフレアテクノロジー 企業情報

セクター
情報技術
従業員数
626
市場
日本

ニューフレアテクノロジーグループは、同社及び子会社2社により構成され、電子ビームマスク描画装置、マスク検査装置、エピタキシャル成長装置の3製品を 中心とした半導体製造装置の開発、製造、販売、保守サービスを主たる事業として行う。【事業内容】同社が提供する電子ビームマスク描画装置は、大規模集積回路(LSI)製造工程において、電子ビームを用いてナノ・オーダーの微細な電子回路パターンを回路原板(フォトマスク)となる感光剤を塗布した石英ガラス基板上に描画する装置であり、電子ビーム描画制御技術をコアの技術として、精密機械制御技術、大規模データ処理技術、高速・高精度アナログ回路技術等、多様で、かつ、高度に専門化された先端要素技術を結集した装置である。マスク検査装置は、フォトマスクと呼ばれるLSIの原版に形成された電子回路パターンを検査する装置で、紫外線の中でもより短波長である深紫外レーザを光源とした光学技術をコアとして、画像処理、欠陥検出処理、機械制御、ソフトウエア等の先端技術を融合して構成される。エピタキシャル成長装置は、半導体製造の基板材料であるシリコンウエハ上に、下地の基板の結晶面にそろえてシリコン単結晶を成長させる装置であり、パソコンやワークステーションに搭載される高性能マイクロプロセッサ(MPU)には表面に結晶欠陥のほとんどないエピタキシャルウエハが用いる。

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